半导体氧化设备具有可密封容器(或氧化室)，半导体设备，将具有内置加热器的加热台设置于这一氧化室的室内部。在加热台上设置衬底支座，半导体清洗设备公司， 在衬底支座上放置半导体样品(或半导体衬底)。氧化室还设有用于向室内部提供包括蒸汽的氧化气氛的输入管和在氧化过程结束后用于排出室内部 中的氧化气氛的排出管。根据具有这样的结构的半导体氧化设备，半导体清洗设备企业，有可能以相对高的复现性使半导体样品均勻氧化。
一种半导体氧化设备，其配有:由室壁界定的可密封氧化室;设置于氧化室内，并用来支撑半导体样品的基座;用于向所述氧化室供应对所述
半导体样品的特定部分进行氧化的水蒸汽的供应部分;监测窗，其设置于所述氧化室的室壁之一内，并且设置于能够面对支撑于所述基座上的所述半导体样品的位置处;监测部分，绍兴半导体清洗设备，其设置于所述氧化室之外，并且能够经由所述监测窗面对支撑于所述基座上的半导体样品;以及调整所述基座和所述监测部分之间的距离的调整部分。
为什么零部件需要去除油污:减少部件表面上的离子杂质。满足容器排气（outgassing)性能的测试 (由第三方实验室检测).此测试检测出了在真空下嵌入金属表面的有机材料的数量和成分。如果测试中的数量太大，则意味着终的加工设备很难将容器真空至全真空状态。815 gd 在这些测试中都有的表现， 主要表现为的清洁能力以及测试中未发现清洗剂的残留。
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