




今天要讲的是一个看起来不起眼但同样重要的环节——清洗。半导体清洗主要是为了去除芯片生产中产生的各种沾污杂质,是芯片制造中步骤的工艺,几乎贯穿整个作业流程。由于芯片的加工过程对洁净度要求非常高,所有与芯片接触的媒介都可能对芯片造成污染,半导体设备零部件的洁净度的好坏对半导体芯片制程、芯片的控制影响很大。

半导体设备泛指用于生产各类半导体产品所需的生产设备,属于半导体行业产业链的关键支撑环节。半导体设备是半导体产业的技术先导者,芯片设计、晶圆制造和封装测试等需在设备技术允许的范围内设计和制造,设备的技术进步又反过来推动半导体产业的发展。半导体氧化设备以及一种制造半导体元件的方法,芜湖半导体氧化设备,其能够沿平面方向保持包含在半导体样品内的选择氧化层的氧化量的均勻性, 并适当地控制氧化量。
一种半导体氧化设备,其配有:由室壁界定的可密封氧化室;设置于氧化室内,并用来支撑半导体样品的基座;用于向所述氧化室供应对所述
半导体样品的特定部分进行氧化的水蒸汽的供应部分;监测窗,半导体设备,其设置于所述氧化室的室壁之一内,并且设置于能够面对支撑于所述基座上的所述半导体样品的位置处;监测部分,其设置于所述氧化室之外,并且能够经由所述监测窗面对支撑于所述基座上的半导体样品;以及调整所述基座和所述监测部分之间的距离的调整部分。
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