




化学镍电镀和电镀镍的主要区别1.化学镍电镀层表面是---均匀的,镀化学镍,只要镀液可以浸泡得到镍层表面,电镀过程中溶质交换充分,镀层就会非常均匀,几乎可以达到仿形的效果。
2.电镀无法对一些形状复杂的产品素材进行全表面施镀,但化学镀可以对任何形状工件施镀。
3.高磷的化学镍电镀层为非晶态,化学镍水,镀层表面没有任何晶体间隙,而电镀层为典型的晶态镀层。
4.电镀因为有外加的电流,化学镍处理,所以镀速要比化学镀快得多,同等厚度的镀层电镀要比化学镀提前完成。
5.化学镀层的结合力要普遍高于电镀层
6.化学镀由于大部分使用食品级的添加剂,不使用诸如化物等---,所以化学镀比电镀要一些。
7.化学镀目前市场上只有纯镍磷合金的一种颜色,而电镀可以实现很多色彩。
化学镀镍镀层特点
磷含量:6-9%(wt); 电阻率:60-75μω·cm;
密度:7.6-7.9g/cm3; 熔点:860-880℃;
硬度:镀态:hv 500-550(45-48rch);
结合力:有钢上400mpa远高于电镀;
热处理后:hv1000; 内应力:钢上内应力低于7mpa
化学镀镍镀液组成及操作条件
原料及操作 单位 范围
nichem 2010a %(v/v) 50
nichem 2010b %(v/v) 150
ph 4.6-4.8
温度 ℃ 85-90(87)
装载量 dm2/l 0.5-2.5(1.5)
时间 视厚度而定 视厚度而定

电镀化学镍是用恢复剂把溶液中的镍离子恢复堆积在具有催化活性的表面上。化学镍可以选用多种恢复剂,现在工业上使用广泛的是以---钠为恢复剂的化学镍工艺,其反应机理,广泛被承受的是“氢化物理论”和“原子氢理论”。
1、氢化物理论
氢化物理论认为,---钠分解不是放出原子态氢,而是放出恢复才能---的氢化物离子(氢的负离子h-),镍离子被氢的负离子所恢复。在酸性镀液中,化学镍,h2po2-在催化表面上与水反应,在碱性镀液中,则为镍离子被氢负离子所恢复,即氢负离子h-一同可与h20或h+反应放出氢气:一同有磷恢复析出。
2、原子氢理论
原子氢理论认为,溶液中的ni2+靠恢复剂---钠(nah2p02)放出的原子态活性氢恢复为金属镍,而不是h2po2-与ni2+直接作用。
先是在加热条件下,---钠在催化表面上水解释放出原子氢,或由h 2po2-催化脱氢发生原子氢,即然后,吸附在活性金属表面上的h原子恢复ni2+为金属ni堆积于镀件表面.一同---根被原子氢恢复出磷,或发作自身氧化恢复---积出磷,h2的析出既可以是由h2pof水解发生,也可以是由原子态的氢结合而成。
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